技术编号：6283704
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种浓度控制方法，特别地，涉及一种。背景技术利用酸性或碱性溶液的湿式蚀刻法，已经成为当前电子产品的制造过 程中相当普遍的制造方式，其应用于包括面板、半导体、电路等。 由于采用蚀刻法必须要使蚀刻液浓度维持在一定的范围内不产生过大的 变化，才能确保蚀刻速率的稳定，使制品品质能得到控制，因此，蚀刻液 浓度的控制方法成为制造过程中不可或缺的技术。常规的浓度控制方法，是在固定时间将蚀刻液采样，进行浓度分析， 然后比较蚀刻液浓度的变化后，补充一定量的酸碱药液...
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