技术编号：6284403
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种过程控制技术，特别是涉及反馈控制方法和反馈控制装置，它通过给受控目标操纵变量以便控制变量跟踪设定点而执行设定点跟踪(随动)控制。一般的PID控制为线性控制理论，并且是一种假定包括被控制目标的控制系统是线性系统的控制理论。被控制的实际目标并不具有严格的线性，并且对于PID控制允许轻微的非线性。在半导体制造装置中在RTP(迅速热过程)中利用卤素灯加热通过高度非线性系统执行，PID控制不能简单地用于这种高度非线性系统。在这种情况下，即使PID控制能...
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