技术编号：6290442
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及工业过程控制，特别是涉及一种针对气路进行控制的 方法和装置。背景技术在工业过程控制中，对于气体流量的控制是一个重要组成部分。例如，在 半导体行业中，通过对气体控制一定的流量，并通过加载射频功率，从而在反 应室内达到致使气体起辉的目的。由于通入气体流量的稳定性直接影响到气体 起辉以及工艺的结果，因此，在现有技术中一般通过质量流量控制器来对气体 流量进行一定的控制。质量流量控制器(MFC)中设置有一个气体流量调节阀门，阀门能使通过控 制器的流量从零调...
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