技术编号：6304901
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对半导体晶片等的基板的曝光处理前后进行处理的基板处理系统及其控制方法、以及控制程序、存储有该控制程序的存储介质。背景技术 例如在半导体器件的制造工艺中，将保护液供给半导体晶片(以下称为“晶片”)的表面，提供保护液并形成保护膜，在对涂敷保护层后的晶片，进行预定图案的曝光处理之后，使该晶片的保护膜上形成的曝光图案显影，通过这种所谓的光刻技术，作为用于形成预定的图案的掩模，形成保护层图形。在这种光刻工序中，众所周知，将曝光装置与基板处理系统连接，可以节...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。