技术编号：6320357
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体加工设备的温度控制，由其涉及刻蚀机、CVD等半导体加工设备 的高精度恒温控制。背景技术现有的恒温装置利用热交换原理，保证半导体加工设备在特殊工作区域的温度恒 定。以刻蚀机为例，随刻蚀工艺的变化，在上片和预处理阶段，半导体加工设备所产生的负 荷差别很大，负荷的波动经常在500 4000W。刻蚀机要求在负荷波动及切换工况下，恒温 装置也要能够做到快速响应并达到稳定。目前刻蚀机对温度控制精度要求达到士 1°C。现 有恒温装置的恒温方式为热交换方式...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。