技术编号:6324630
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及印刷电路板的生产线,具体是指一种蚀刻过程中自动补充蚀刻容 器中的安水量的装置。背景技术现有的印制电路板向多层化、密集化的方向发展,线条越来越细,对蚀刻的要求越 来越高。现有较多采用的蚀刻方式为采用碱性蚀刻液的蚀刻方式,碱性蚀刻液是以氯化铜 (CuC12)和氨(NH4. 0H)形成的铜氨络离子为主要成分的碱性蚀刻水溶液,也称碱性氯化铜 蚀刻液或氨碱蚀刻液。碱性蚀刻液的PH值应保持在8. 0 8. 8之间。当PH值降到8. 0以下 时,一方面会对...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。