技术编号：6329885
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于真空设备定位，特别是涉及。背景技术真空镀膜设备在对样品进行镀膜过程中需要控制样品在真空室的位置，为实现定位控制硬件上通常采用PC机+运动控制卡，或者采用PLC专用的定位模块实现，软件上需要单独编程进行处理。这种方式软件编程结构复杂，如果电机驱动控制器在远端，则系统布线工作量很大；扩展性差，如果需要增加运动控制器数量，就需要对控制系统重新编程。发明内容针对上述存在的技术问题，本发明提供一种使用参数配置方式进行控制的真空设备运动定位控制系统及控制方法...
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