技术编号:6340975
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种图像获取方法,尤其涉及一种用于光刻机对准系统的模板图像的获取方法。背景技术步进光刻机的功能是将描绘在掩模板上的电路图形通过光学投影的方法投影在涂有感光材料的硅片等曝光对象的表面,然后通过刻蚀等工艺实现掩模板和曝光对象之间的图形转移。由于芯片是由多层电路组成的,集成电路芯片通常需要多次曝光完成。为保证不同电路层之间的精确位置关系,在投影曝光过程中,必须实现掩模板和曝光对象之间的精确对准。步进光刻机对准系统是通过机器视觉技术实现掩模板和曝光对象之...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。