技术编号：6384822
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一个整合型的接口系统与其实现智能型良率解决方案的方法，特别的是提供一具有呈现多种浏览与分析晶圆缺陷页面的网站。背景技术在集成电路(integratedcircuit, IC)工艺中，薄膜沉积(thin filmdeposition)、光罩曝光(mask exposure)、黄光、光刻蚀刻(lithography, and etching)等为必要步骤，其中较难避免在IC工艺中因为一些随机粒子造成的缺陷与系统性的缺陷使得良率(yield)下降。而低...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
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