技术编号：6399418
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本申请一般地涉及氧化铟锡(ITO)层的形成，尤其涉及通过将ITO加热至较高温度而在基片之上形成结晶ITO层的同时限制基片的温度增加。背景技术现今，有许多类型的输入设备可用于执行计算系统内的操作，这些输入设备包括诸如按钮或键、鼠标、跟踪球、游戏杆、触摸传感器面板、触摸屏等等。特别地，触摸屏因其易于使用、适于多用途操作且价格逐渐降低而变得越来越流行。触摸屏可以包括触摸传感器面板和显示设备，其中触摸传感器面板可以是带有触摸敏感表面的透明面板，而诸如液晶显示器(L...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。