技术编号:6414691
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于测量半导体之类器件中杂质浓度的方法以及存储杂质浓度测量程序的记录介质,具体地说,涉及一种可以进行高精度测量的杂质浓度测量方法以及存储杂质浓度测量程序的记录介质。在测量半导体之类器件表面附近沿深度方向的杂质分布方面,已提出过70多种方法。在这些方法中,SIMS(次级离子质谱测定法)被广泛采用,因为它能以显著的灵敏度获得沿深度方向微量元素的种类及含量信息。SIMS方法的详细介绍可参见文献“SOLID SURFACE ANALYSIS I,pp...
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请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。