一种用于磁共振成像超导磁体设计的离散优化方法技术资料下载

技术编号:6464356

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本发明属于应用超导,尤其涉及磁共振成像(MRI)超导磁体设计。 背景技术磁共振成像(MRI)是一种利用核磁共振现象进行成像的技术。主磁体是MRI系统的重要 部件,其作用是在成像区域内产生一个具有特定强度和一定均匀度的背景磁场。其电磁设 计指标有-(1) 磁场强度^,指成像区域(DSV)中心点磁场值。(2) 磁场均匀度,其一种定义方法为一丑血 -。—"^",其中,//o表示磁场均匀度,5dx和5di分别表示成像区域内磁场的最大值和最小值。(3) 杂散场范围,...
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