技术编号：6511599
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种红外线回归反射膜及其制备方法。本发明的红外线回归反射膜包含可屏蔽可见光并透过红外线的膜层和回归反射层，所述可屏蔽可见光并透过红外线的膜层对850-940nm的红外线透过率不低于80%，对400-700nm的可见光透过率小于5%。本发明的红外线回归反射膜能减少反射膜对可见光的反射，维持对特定红外线的敏感度，提高红外光学系统对可见光的抗干扰能力，同时能降低回归反射系统的大角度衰减，提高光电系统的稳定性。专利说明一种红外线回归反射膜 [000...
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