技术编号:6512821
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于最优化集成电路布图以便于最佳化动态定义的光刻工艺的新型方法和系统,在该光刻工艺中,在固定边缘位置处不应用光刻公差,以便于与使用常规设计规则得到的用于印刷功能电路的工艺窗口相比,获得更大的工艺窗口。背景技术 光刻约束是确定电路布图效率的一个重要因素。本质上,常规地,光刻约束由通常受限的光刻工艺在公差内的指定位置处成功印刷边缘的能力确定。光刻工艺包括利用光刻曝光工具从方向范围照亮光刻掩膜,并将掩膜的投影图像聚焦到感光膜上,该感光膜涂覆在诸如硅...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。