技术编号:6554141
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造技术。更具体地说,本发明涉及利用一种处理灵敏度模型来确定掩模布局(mask layout)中改善的辅助特征(assist feature)配置的方法和装置。背景技术 近年来在半导体集成度方面的急速发展之所以成为可能,基本上是由于半导体制造技术的相应提高造成的。一种这样的半导体制造技术涉及在掩模布局中放置辅助特征。请注意,辅助特征可以是印制的(例如超级分辨率(super-resolution)辅助特征)或者是非印制的(例如亚分辨率辅助特征...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。