技术编号:6568136
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路的设计和制造,尤其涉及用于改善制造集 成电路的光刻工艺的系统和方法。背景技术用于集成电路(IC)的电子设计过程包括描述IC或电子系统的行为属性、架构属性、功能属性、以及结构属性。设计团队通常从非常抽象的目标产品的行为模型开始,并以ic芯片上的各种结构、器件、以及互连的物理描述结束。半导体代工厂使用物理描述来产生制造IC所需的掩膜和测试程序。在设计、验证、以及制造电子设 计的整个过程中,EDA工具广泛地被设计者所使用。光刻是一种光学印刷和制...
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请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。