技术编号：6572434
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种集成电路版图的数据处理方法，特别是涉及一种集成 电路版图中SRAM图形的快速修改方法。 背景技术在深亚微米工艺的IC产品中，客户提交的版图中经常会使用经过OPC (光学临近效应修正)处理的SRAM Cell (静态存储器版图单元)。由于业 内采用的OPC模型不尽相同，因此客户提交的版图往往不符合代工制造商 的生产工艺要求。为了解决该问题，需要修改客户提交的版图，将其中不 符合生产工艺的SRAM Cell修改为符合生产工艺的SRAM Cell。...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。