技术编号:6611792
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 本发明一般涉及设计自动化领域,更具体地,涉及为了执行系统缺陷分析的目的而用于在在较大集成电路形状布局(shape layout)中匹配布局形状(shape)。 背景技术 在半导体处理中的系统缺陷是不作为在制造期间干扰曝光或者其它平版印刷(lithographic)处理步骤的颗粒(particle)的结果的缺陷。相反,系统缺陷涉及形状布局瑕疵或处理设计瑕疵,并且其在完成的产品内的相同位置上有规律地发生。特征化工程师(yield characteriza...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。