技术编号：6613425
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种光刻机抗蚀剂成像仿真数据三维交互显示方法，属于微电子光刻 技术模拟过程与虚拟现实。背景技术光刻是大规模集成电路制造的关键环节，是互补性氧化金属半导体(CMOS)和片 上系统(S0C)制造的关键工艺，随着大规模集成电路进入纳米时代，光刻技术变得 越来越复杂，光刻仿真能够帮助半导体技术人员模拟光刻工艺，缩短开发周期、提高 产品质量。是版图设计的必要工具。光刻过程仿真基本上包含空间像强度分布、曝光、后烘、刻蚀，其中抗蚀剂的刻 蚀过程仿真是耗时最多的...
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