技术编号：6650597
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于确定Z位置错误/变化测量值和/或基板台(或“吸盘”)平整度测量值的光刻装置和方法。背景技术 光刻设备是一种将希望的图形施加到基板的目标部分上的机械。光刻装置可用在例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可选地称为掩膜或母版的图案化器件可用于产生与IC的独立层相对应的电路图案。这可以通过使用在母版和基板之间并提供其以将母版的照射部分成像到基板的目标部分上的投影系统来完成。投影系统包括定向、成形和/或控制辐射束的元件。可将图案成像到基板如...
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