技术编号:6736603
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及清洗剂,尤其涉及一种计算机磁头抛光后使用的水溶性清洗剂。 背景技术 随着计算机技术飞速发展,对计算机硬盘和磁头的表面质量要求越来越高。目前,磁盘/磁头间隙已趋近于15nm以下,所以磁头和磁盘的表面粗糙度、划痕、杂质颗粒等都会对计算机磁盘造成致命危害,为此,要尽量降低磁头和磁盘表面缺陷和污染。其中,对于计算机磁头来说,抛光后的清洗是减少其表面杂质污染的有效手段。 目前,计算机磁头在抛光过程中大都使用颗粒尺寸在微米量级的固体粉作为磨料,将它们分散于...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术无源代码,用于学习原理,如您想要源代码请勿下载。