技术编号:6738498
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及磁记录介质的磁性体薄膜、特别是采用垂直磁记录方式的硬盘的磁记录层的成膜中使用的强磁性材料溅射靶,涉及可以抑制溅射时导致粉粒产生的氧化物的异常放电的非磁性材料粒子分散型。背景技术溅射装置有各种方式,在上述磁记录膜的成膜中,从生产率高的观点考虑,广泛使用具备DC电源的磁控溅射装置。溅射法使用的原理如下将作为正电极的衬底与作为负电极的靶对置,在惰性气体气氛中,在该衬底与靶之间施加高电压以产生电场。此时,惰性气体电离,形成包含电子和阳离子的等离子体,该等...
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