技术编号:6749362
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种,该方法是通过在带凹槽的第一层上面沉积一种材料来填充凹槽而形成第二层,然后进行抛光处理以形成一个平坦的表面。这种方法从EP-AO 617 409(PHN 14.428)中可知。该已知方法用于薄膜磁头的制造,其中第一层是通过在一个载体上沉积锆或石英而形成的,然后除去部分材料从而在该层形成凹槽。然后,通过沉积一种软磁材料而形成填充凹槽的第二层。在第二层形成之后进行一种机械化学的抛光处理,直到抛光处理到达第一层,从而形成一个由第一层和第二层剩余在凹...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术无源代码,用于学习原理,如您想要源代码请勿下载。