技术编号:6764444
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供一种溅射用MgO靶材,即使在使用MgO作为溅射用靶材的情况下,也能够在形成MgO膜时使成膜速度高速化。本发明的溅射用MgO靶材以MgO和导电性物质作为主要成分,其特征在于,所述导电性物质在通过DC溅射法与MgO一起成膜时,能够为所形成的MgO膜赋予取向性。专利说明溅射用MgO靶材[0001]本发明涉及可以利用DC溅射法形成MgO膜的溅射用MgO靶材。背景技术[0002]以往以来,作为电子/电气部件用材料的成膜方法之一,多使用可以容易地控制埃单位~...
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