曝光装置、记录介质、记录装置及再现装置制造方法技术资料下载

技术编号:6764566

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本发明涉及记录介质。所述记录介质包括简单磁道,所述简单磁道由布置的凹坑或布置的标记构成;及有沟磁道,所述有沟磁道是通过在凹坑或标记之间插入沟而构成的。所述简单磁道和所述有沟磁道以0.27微米以下的磁道间距在径向上交替地布置。专利说明曝光装置、记录介质、记录装置及再现装置[0001]本发明涉及用于执行母盘(master disc)的曝光操作的曝光装置,并涉及记录介质,其中母盘用于制造光盘记录介质。而且,本发明还涉及用于在包括记录层的可记录型记录介质上执行记录...
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