技术编号:6766135
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种强磁性材料溅射靶,其含有包含钴;或者钴、铬;或者钴、铂;或者钴、铬、铂的基体相和至少包含铬氧化物的氧化物相,其特征在于,含有合计为100重量ppm以上且15000重量ppm以下的Zr、W中的任意一种以上元素,相对密度为97%以上。本发明的课题在于提供在保持高密度的同时使氧化物相的颗粒均匀地微细化且粉粒产生少的含有铬氧化物的强磁性材料溅射靶。专利说明含有络氧化物的强磁性材料派射祀 [0001] 本发明涉及用于磁记录介质的磁性体薄膜、特别是采用垂直磁...
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