图案形成方法技术资料下载

技术编号:6770489

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本发明涉及一种能够用于模制结构体的复制、以及对半导体元件、及磁记录介质体等的精细图案的形成的。背景技术如图IA 图IE所示,纳米压印法是在表面形成有树脂层2的基板1的该树脂层2 上,按压表面具有凹凸图案的模制结构体3,将该模制结构体3的凹凸图案转印在树脂层2 上。接着,将该树脂层上形成的凸部作为掩模对基板1进行蚀刻。所得到的结构物(模制结构体)10是模制结构体的图案翻转而被转印的。到目前为止,作为构图方法,例如,已提出使用导电性的模制结构体的阳极氧化构图方...
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