技术编号：6777990
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。作为用于垂直磁记录的溅射耙的具有或不具有氧化物的Ni-X、 Ni-Y和Ni-X-Y合金关于联邦政府资助的研究或开发的声明 不适用。本发明一般地涉及溅射靶，并且更具体地涉及用于垂直磁记录 (perpendicular magnetic recording(PMR))应用的磁记录介质的种子层沉 积，其中所述种子层提供晶粒大小细化和为随后沉积的底层或颗粒磁 性层提供降低的晶格失配，并且其中使用镍(Ni)合金基溅射靶沉积 所述种子层。背景技术直流(DC)磁控溅射法...
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