磁阻元件及其制造方法技术资料下载

技术编号:6778351

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本发明涉及通过对磁阻膜提供检测电流来检测磁力的磁阻元件。背景技术 通过利用巨磁阻效应(GMR),磁器件尤其是磁头的性能有明显改善。尤其是对磁头、MRAM(Magnetic Random Access Memories,磁随机存取存储器)等应用自旋阀膜(SV膜),在磁器件领域带来了巨大的技术进步。“旋阀膜”是包括非磁性间隔层介于两层铁磁层之间这种结构的多层膜,该多层膜结构其发生阻抗变化的部分称为自旋相依散射单元。两层铁磁层其中一层(称为“被固定层”、“磁化被...
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