技术编号：6788263
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及超导薄膜材料的制造方法。目前，制造高Tc超导薄膜材料的方法有电子束蒸发，磁控溅射或高频溅射等物理气相淀积法(PVD)，丝网印刷厚膜工艺，化学喷雾热解和等离子体喷涂等。这些工艺方法具有一个共同的问题即是制备的薄膜材料必须经过后续高温(700℃-950℃)热处理才能获得高Tc超导电性。通过这样高温热处理发生高温固相反应不仅使得其材料膜表面十分粗糙，而且引起严重的衬底材料对薄膜的扩散污染，使得可用衬底材料稀少，且价格贵。尤其是高温热处理工艺难以与微电子...
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