基于Ni膜退火的SiC衬底侧栅石墨烯晶体管制备方法技术资料下载

技术编号:6788521

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本发明属于微电子,涉及半导体器件制备方法,具体地说是。背景技术随着人们对高性能,高可靠性,低能耗设备需求的提高,对集成电路上器件特性变得愈发关注。石墨烯,这种由二维六角形碳晶格组成的材料,由于其突出的电学结构特性自2004年被英国曼彻斯特大学的两位科学家安德烈 杰姆和克斯特亚 诺沃消洛夫发现得到后,即被当做制造高性能器件 的备选材料。现有的石墨烯的制备方法,如申请号为200810113596.0的“化学气相沉积法制备石墨烯的方法”专利,公开的方法是首先制备...
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