技术编号:6789340
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明是,属于半导体器件生产。众所周知,半导体器件生产中的清洗,主要是清除有机物和金属离子的沾污,尤其是要求最大限度地不残留任何金属杂质,利用以非离子表面活性剂和金属离子螯合剂为主剂的清洗剂清洗方法,具有操作方便、成本低、无毒、对皮肤无腐蚀、对人体无危害、对环境无污染等优点;利用这类清洗剂进行清洗,其清洗效果相当或优于传统清洗方法,在所用清洗剂中再加微量的HF酸进行清洗,竟达到了预想不到的清洗效果。本发明目的是提供一种半导体硅器件生产中的清洗方法,对半导体...
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