具有共掺杂薄膜的氮化镓基激光二极管的制作方法技术资料下载

技术编号:6789489

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本发明属于半导体领域,具体来说涉及一种具有共掺杂薄膜的氮化镓基激光二极管。背景技术氧化锌(ZnO)无论在晶格结构、晶胞参数还是在禁带宽度上都与GaN相似,且具有比GaN更高的熔点和更大的激子束缚能,又具有较低的光致发光和受激辐射的阈值以及良好的机电耦合特性、热稳定性和化学稳定性。因而在蓝紫光发光二极管、激光器及其相关光电器件方面的应用有巨大的潜力。在室温下,氧化锌(ZnO)的禁带宽度为3.37eV,自由激子结合能高达60meV,远大于GaN的激子结合能25...
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