技术编号：6797988
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。该发明属于半导体器件表面处理方法。剖析集成电路芯片，对版形进行分析，从而获得电路的设计构思，线路图，探讨光刻掩膜版图的合理性，对优化设计，缩短设计周期，加速集成电路新品开发是一条捷径。离子注入掺杂区域的平面结构显示技术也是电路剖析技术之一。这是集成电路版面分析前必不可少的重要手段。传统的集成电路掺杂工艺采用扩散方法。扩散的结果是，在芯片的表面将留下各道扩散时在光刻氧化层“窗口”的图形。其边缘有氧化层台阶。从“窗口”不同氧化层颜色可以判断不同的扩散区域，如基...
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