含有阻化化合物的抛光系统及其使用方法技术资料下载

技术编号:6800426

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本发明涉及一种抛光系统、组合物以及抛光一种基板的方法,特别抛光是一种包括第一金属层与第二层的多层基板的方法。背景技术集成电路是由在一块基板(诸如硅晶片)中或其上所形成的数百万个活性装置所制得。将该活性装置化学且物理性连接于一个基板上,并通过使用多层连接层互连,从而形成功能电路。有代表性的多层互连包括第一金属层、中间介电层以及有时存在第三与后续的金属层。采用中间层介电体,诸如掺杂的与未掺杂的二氧化硅(SiO2)和/或低k介电体来电隔绝不同金属层。使用金属通路...
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