技术编号:6808288
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及辐射敏感的正性光刻胶组合物的制备方法,尤其是涉及含成膜树脂(如酚醛清漆树脂或乙烯基酚树脂)和光敏剂成分(如重氮萘醌或光-酸生成剂,如二芳基碘鎓盐或芳基鎓盐)这样的光刻胶组合物的制造方法。在本中制造正性光刻胶配方的技术是众所周知的,如在美国专利3,666,473、4,115,128和4,173,470中讨论的。这些光刻胶包括了碱溶性酚醛清漆树脂和乙烯基酚树脂以及一般为取代的重氮萘醌化合物或光-酸生成剂的光敏成分(光敏剂)。将这些树脂和光敏剂溶于有机...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。