技术编号:6808521
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及量子线超微细图形制作方法。量子线和量子点是一类具有明显量子效应的低维量子结构,其线宽一般为500埃以下,要制作具有量子尺寸精度的超微细图形在工艺上是十分困难的。“半导体量子微结构及其研究进展”(《大自然探索》1993.3)一文对现有技术中已经出现的特殊结构生长法和图形印刷技术方法分别作了描述,日本光子工厂年度报告(1991年)上介绍了另一种方法即相移方法。所述特殊结构生长法是在一定图形的衬底上,利用外延技术生长量子线,这种方法有不受图形分辨率限制...
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