技术编号:6811305
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及功率半导体器件的制造方法,具体地讲,涉及能控制闩锁有杂质注入结构的。众所周知,在功率半导体器件中闸门选通晶体管,特别是在沟道闸门选通晶体管中,闩锁现象作为限制工作电流大小的原因起着主导作用。总之,在具有晶闸管结构的闸门选通晶体管中,当流向设在P-型阱上部的N+型源结区下方的空穴电流变大时,由于前述P-阱的电阻值,前述阱与源结区就出现电压差。该电压差增加到一定值以上,寄生npnp晶闸管就工作。当该晶闸管工作时,就成为供给pnp晶体管电流(电子电流)...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。