技术编号:6812719
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术和概述本发明涉及为半导体制造提供超高纯氨体系和方法。在IC制造中的污染污染通常是在集成电路制造中所关心的头等重要的事情。在现代集成电路制造中的大部分步骤是这类或那类清洗步骤;这些清洗步骤可能需要除去有机污染物、金属污染物、光刻蚀剂(或其无机残留物)、刻蚀的副产物、原生氧化物等。根据1995年的资料,一套前期制作设备(集成电路晶片制造工厂)的费用通常大于10亿美元,其中大部分用于颗粒控制、清洗和污染控制的措施。造成污染的一个重要来源是工艺化学品中的杂...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
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