动态随机存取存储器绝缘层上有硅的结构和制作方法技术资料下载

技术编号:6814684

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本发明涉及一种动态随机存取存储器(DRAM)绝缘层上有硅(Silicon OnInsulator;SOI)的结构和工艺,特别是涉及一种改进的绝缘层上有硅的制造方法,以增加操作时的速度和软错免疫力(Soft-Error Immunity)。DRAM包含一个阵列的电荷存储电容器(Storage Capacitor)和一个对应阵列的转换场效应晶体管,在进行数据的读取与写入的操作时,此DRAM的转换场效应晶体管可以用作开关(Switch),其一边耦合到电荷存储电容...
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