技术编号：6823521
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术1.发明领域本发明涉及一种用紫外线(UV)源对衬底(包括半导体衬底)作UV加热和光化学处理的装置以及一种利用所述装置对所述衬底进行处理的方法。发现可特别应用于集成电路制造中在约400℃或更低的温度下的蚀刻、清洗、或从半导体衬底的表面剥离大量薄膜和污垢物。2.现有技术的描述在包括清洗、蚀刻或其它处理的半导体衬底处理中，使用紫外线(UV)活性气体是众所周知的。Hiatt等人的美国专利5,580,421描述一种用UV可激活调节气体来处理衬底的装置，在此引...
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