技术编号：6824821
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种投射曝光方法，用于利用布置在投射物镜的物面的区域中的掩模的图案的至少一个像，曝光布置在投射物镜的像面的区域中的辐射敏感基底，并涉及一种适合执行该方法的投射曝光设备以及一种用于激光辐射源的带宽窄化模块。背景技术现在，微光刻投射曝光方法是用于制造半导体元件以及其它精细结构器件的主导方法。在此情况下，使用承载了要被成像的结构的图案的掩模(掩模母版)，例如半导体元件的层的线图案。掩模被定位到投射曝光设备中，在照明系统与投射物镜之间，在投射物镜的物面的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。