技术编号：6825952
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体用基板的清洗方法以及用于所述清洗方法的酸性溶液。本申请根据2009年4月30日在日本提出申请的特愿2009-111488号主张优先权， 在这里援引其内容。背景技术在电子设备中，由于微细的污渍会导致工作不良或性能降低，因此要求几乎完全除去比如用于半导体用基板、硬盘用基板、液晶面板等显示器用基板等的电子设备用基板上的极微小的污渍。因此，工业用领域的精密清洗需要以非常高的洁净度除去附着在电子设备用基板上的污渍。作为所述污渍，举例有蜡等的基板固定剂...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。