技术编号：6830195
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及磁体结构。在溅射装置中，等离子体产生于溅射室里的真空中。等离子体的正离子被阴极的负电势所吸引，其提供了所谓的目标物。正离子撞击在该目标物上，撞出小粒子，并淀积于衬底之上。撞击出这些粒子，被称为“溅射”。该等离子体由气体组成，在非反应溅射的情况下，气体是惰性气体，例如氩气。在反应溅射中，例如，单独利用氧气，或将其与惰性气体一起使用。为了改善溅射的效果，在目标物的附近使用了磁体，它的磁场将等离子体维持到目标物上。该磁场强迫等离子体中的电子进入特定轨道...
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