技术编号:6833219
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及基片处理系统,其使用各种气体环境在用来形成半导体元件的基片上执行气体曝光过程或处理。具体地,本发明涉及基片处理系统,其中,在通过蒸发有机溶剂溶液获得的气体环境中对在基片表面上形成有机薄膜执行曝光处理,以便溶解和回流有机薄膜。背景技术 日本公开专利申请11-74261公开了一种常规半导体处理系统,其在用来形成半导体元件的基片上执行各种处理。此公开文本中公开的系统是一种通过使用有机材料制成的涂层薄膜来平坦在其上形成半导体元件的表面的装置。通过使用...
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