技术编号:6833918
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及通过常用的湿法腐蚀和光刻工艺制作一种新型的。背景技术 光纤通信系统中大部分的模块是由III-V族化合物半导体器件组成的。每个半导体器件至少要与一根光纤相连接,所以半导体光电子器件与光纤之间的耦合效率就显得很重要。对于一般的玻璃光纤来说,其芯层和盖层之间的折射率差别很小,一般在5×10-3以下。这样的波导结构就是弱引导波导,其本征光场的分布相当弥散,也就是本征光斑较大,一般直径在8-10μm左右。而III-V族化合物半导体中如果要达到折射率差在5×...
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