技术编号：6834525
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种，特别涉及一种用于阻止COD(破坏性光学损伤)水平降低的技术。背景技术 在制造高输出的半导体激光器中，通常采用称为不对称涂覆法的方法来涂覆谐振腔的端面。为了达到高效地发射激光束的目的，采用不对称涂覆法，在发射激光束的谐振腔的端面上形成低反射涂层，并在谐振腔的另一端面上形成高反射涂层。在不对称涂覆法的准备阶段，执行称为等离子体清洗的方法以便将谐振腔的端面的半导体叠层结构的解理面暴露于等离子体态的惰性气体(例如氩气)中数分钟。当在空气中分割半导体...
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