技术编号:6835258
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。和相关技术本发明涉及应用于各种微型器件制造的装载上锁(load-lock)技术,微型器件例如是半导体芯片(例如,IC或LSI)、显示器件(例如,液晶平板)、检测元件(例如,磁头)和图像拾取器件(例如,CCD)。已经较大地提高了半导体集成电路的密度和速度,在这种趋势下,集成电路图形的线宽也越来越窄。这使得半导体制造方法进一步提高。关于在半导体制造工艺之一的光刻工艺中用于形成抗蚀剂图形的曝光装置,已经开发了使用深紫外光的曝光装置,如KrF激光(波长248nm)...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。