技术编号:6835418
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明步及一种有机抗反射涂覆组合物及一种用其形成光阻图案以改良该图案在光阻材料超细图案形成过程中的均匀性的方法,更详细地说,涉及一种有机抗反射涂覆组合物,其在光阻图案形成过程期间能藉由曝光来预防待曝光部分中由光阻膜所含光酸产生剂引起的过量酸的产生,从而阻止该酸扩散至其它未曝光部分,以避免引起光阻图案破坏或绉缩;及一种用其形成光阻图案的方法。背景技术 近年来,在半导体生产过程中,由于半导体的高集成及微细组件的形成,一种有可能提供高光敏性及超细图案的化学放大光...
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