技术编号：6836017
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种抗反射层及改善导体层电性效能的方法，且特别是有关于一种。背景技术 随着制程线宽越来越窄，使得微影制程的困难度随之增加，这是因为线宽缩减后，容易发生对准失误的情形。尤其在定义导体层时，因为导体层的反射系数(reflectivity index)通常较周围的介电层或绝缘层大，致使定义光阻层图案时，曝光光源容易在导体层表面发生反射，造成光阻层尺寸偏差，导致微影图案转移不正确。为防止上述所提的误差出现，可以在导体层上制造一层抗反射层(anti-ref...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。